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高純氨應(yīng)用原理是什么？

【1】? Ga(CH₃)₃+ NH₃?→ GaN + 4CH₄；

這個(gè)反應(yīng)是制造發(fā)光二極管（LED）外延芯片的氮化鎵的基 礎(chǔ)，反應(yīng)在昂貴的 MOCVD （有機(jī)金屬氣相沉積）設(shè)備上完成。山東青島。

【2】? 3SiH₄?+ 4NH₃→ Si₃N₄?+ 12H₂；

這個(gè)反應(yīng)是制造氮化硅（Si₃N₄?）的基礎(chǔ)，由硅烷（SiH₄?）和高純氨在較高溫度下，在化學(xué)氣相沉積（CVD）設(shè)備中進(jìn)行反應(yīng)，此反應(yīng)也需要相當(dāng)數(shù)量的高純氨氣。山東青島。

魯東氣體在山東青島有設(shè)有多個(gè)高純氨氣氣體供應(yīng)站點(diǎn)，高純氨氣站點(diǎn)有：高純氨氣城陽站，高純氨氣嶗山站，高純氨氣黃島站，市北區(qū)，市南區(qū)，李滄區(qū)，李村，即墨，高新區(qū)等等。